真空式等离子处理系统CRF-VPO-MC-6L

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公　司：深圳市诚峰智造有限公司

发布时间：2018年08月14日

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电　　话： 400-878-9138 传　　真： 0755-27267268 手　　机： 13632675935 地　　址：中国广东深圳市宝安区黄埔孖宝工业区邮　　编： 518104
公司主页：	http://crfplasma.87966.com(加入收藏)

详细说明

名称（Name）真空式等离子处理系统
型号（Model）CRF-VPO-MC-6L
控制系统（Control system）PLC+触摸屏
电源（Power supply）380V/AC,50/60Hz,12.5kw
中频电源功率（MF Power）2000W/40kHz
容量（Volume）235L（Option）
层数（Electrode of plies）6（Option）
有效处理面积（Area）500（L）*500（W）（Option）
气体通道（Gas）两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2

超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，精确的控制设备运行。
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。
保养维修成本低，便于客户成本控制。
高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。
主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。

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