硅片烧结回转窑气氛回转炉连续式回转烧结炉

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硅片烧结回转窑气氛回转炉连续式回转烧结炉

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公　司：无锡市佰陆热工科技有限公司

发布时间：2021年08月28日

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详细说明

产品名称：硅片烧结回转窑气氛回转炉连续式回转烧结炉

一、概述
硅片烧结回转炉主要用于CVD实验，也运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负极材料，新能源，磨具等行业测定材料在一定气氛条件下的专业设备。

二、型号规格

设备型号炉膛尺寸（mm) 温度(℃）额定功率（KW) 电压（V)
BLXG系列 φ120*2000-2500 1100-1600 8-16 380
BLXG系列 φ160*2500-3000 1100-1600 12-30 380
BLXG系列 φ220*2500-4000 1100-1600 15-40 380
BLXG系列 φ270*2500-5000 1100-1600 20-50 380
BLXG系列 φ320*2500-6000 1100-1600 30-60 380
BLXG系列 φ370*3000-7000 1100 30-70 380
BLXG系列 φ400*3000-8000 1100 40-80 380

注：回转窑炉可根据用户要求另行设计制造

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