江苏思峻通过技术革新推出的砖利产品、胶体磨和分散机的一体化设计相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势；串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好，而GMD2000系列超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之前，就进行了分散，一个瞬间作用，效果极佳，结合多家药企案例，推荐采用GMD2000/4系列研磨分散机进行酶制剂的研磨混合分散，一般粒径可达DN90≤5μm，产品均匀度更高、GMD2000系列各环节都带有夹套，处理过程中可对物料进行温度控制；清洗方便，符合在线清洗和灭菌。
当所处理的物料要达到非常细的程度时候，对于设备的要求就会非常的高。而从设备角度来考虑的话，能够达到超细的效果，要具备以下条件：
（1）超高的剪切力，GMD2000系列研磨分散机转速高达14000rpm，线速度为44m/s，是传统设备的4-5倍。
（2）高精密度的定转子，超细研磨分散机的定转子分为两级，弟一级为胶体磨磨头，采用三级错齿结构，磨头沟槽的深度角度都符合流体力学的设计；第二级是分散头，SGN分散头有六种不同的规格，从粗到细，越来越密，分散效果佳。
（3）机械密封，超细的分散效果取决于超高的转速，而转速越高机械密封的热能量就越大，设备的机械密封是否能够耐的住这么高的转速，国内大多数厂家的机械密封是无法达到的。
（4）头孢类混悬液，采用GMD2000系列高剪切分散机，处理30min，粒径可达5μm；
（5）疫苗及脂肪乳乳化，采用SGN分散机，乳液粒径可达300nm；
（6）阿苯达唑混悬液，采用GRS2000分散机，14000rpm，粒径可达10μm；
（7）口服液，采用SGN分散机，14000rpm，20min，粒径可达3μm； |
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