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供应激光刻膜机 供应激光刻膜机_武汉三工光电设备制造有限公司_供应激光刻膜机

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公 司: 武汉三工光电设备制造有限公司
发布时间:2011年05月25日
有 效 期:2011年11月24日
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公 司:武汉三工光电设备制造有限公司

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详细说明

    SEF-G5:激光刻膜机 

产品特点:半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器;膜面朝上非接触式工作台;直线电机驱动;四路同步输出;自动识别跟踪定位;自动进出料;在线监测;静态显示  

技术参数: 

型号规格:SEF-G5

有效加工幅面:1.1m×1.4m(或635mm×1245mm ) 

*大运行速度:2000mm/s 

重复定位精度:±10μm   

刻线直线度:±10μm / 1000 mm   

典型刻膜线宽:30~60μm  

三线外沿总宽度:300~500μm    

选项和配件: 

高标配,可根据需要移除不需要的部件。 

应用和市场:非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜(SnO2、AZO、ITO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si)、背电极膜(ZnO、Al)等的激光刻膜(刻线、切割),其它薄膜电池的膜层刻膜(金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜)。


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